國(guo)內(nei)外的(de)潔凈工(gong)程(cheng)的(de)發展都是隨(sui)著科(ke)(ke)學(xue)工(gong)程(cheng)的(de)發展、工(gong)業產(chan)品的(de)日新月(yue)異(yi)，特(te)別是軍事工(gong)業、航天、電子和生物(wu)醫(yi)藥等(deng)工(gong)業的(de)發展而(er)不斷發展。現代(dai)工(gong)業產(chan)品生產(chan)和現代(dai)化(hua)科(ke)(ke)學(xue)實驗活(huo)動要求微型化(hua)、精密(mi)化(hua)、高純度、高質(zhi)量和高可靠(kao)性。微型化(hua)的(de)產(chan)品如(ru)電子計算(suan)機，從當初的(de)要在(zai)數間(jian)房間(jian)內(nei)配置數臺設備組合發展到現在(zai)的(de)筆記本電腦，它所使(shi)用的(de)電子元(yuan)器件從電子管到半導體(ti)分離(li)器件到集成(cheng)(cheng)電路(lu)再(zai)到超 大規模集成(cheng)(cheng)電路(lu)，僅(jin)集成(cheng)(cheng)電路(lu)的(de)線寬已從幾微米(mi)發展到現今的(de)0.1um左右。

　　1、以集(ji)成(cheng)電(dian)(dian)路(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)微(wei)型(xing)化為(wei)(wei)例(li)，它對(dui)空氣(qi)中受控(kong)粒(li)子(zi)(zi)粒(li)徑(jing)從(cong)0.3~0.5um的(de)(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)發展到(dao)空氣(qi)中受控(kong)粒(li)子(zi)(zi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)粒(li)子(zi)(zi)尺寸要求(qiu)控(kong)制在0.05um甚至更小，可(ke)見(jian)各類(lei)工業產(chan)(chan)品(pin)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)微(wei)型(xing)化正不斷對(dui)潔(jie)凈(jing)工程(cheng)提出更嚴格的(de)(de)(de)(de)(de)(de)要求(qiu)。高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)，如(ru)生(sheng)產(chan)(chan)集(ji)成(cheng)電(dian)(dian)路(lu)所需單晶硅材料，生(sheng)產(chan)(chan)光(guang)纖(xian)所需四敘化硅、四氯化錯(cuo)材料等(deng)(deng)已由過去的(de)(de)(de)(de)(de)(de)所謂高(gao)純(chun)(chun)進入(ru)“電(dian)(dian)子(zi)(zi)純(chun)(chun)”“超(chao)(chao)純(chun)(chun)”，只有達到(dao)如(ru)此(ci)高(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)純(chun)(chun)度(du)才能達到(dao)現代(dai)集(ji)成(cheng)電(dian)(dian)路(lu)、電(dian)(dian)子(zi)(zi)元器件、光(guang)纖(xian)產(chan)(chan)品(pin)所需的(de)(de)(de)(de)(de)(de)工程(cheng)特性。要生(sheng)產(chan)(chan)如(ru)此(ci)高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)，就必 須達到(dao)相(xiang)應的(de)(de)(de)(de)(de)(de)受控(kong)生(sheng)產(chan)(chan)環境(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)空氣(qi)潔(jie)凈(jing)度(du)等(deng)(deng)級和具有相(xiang)應高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)與(yu)產(chan)(chan)品(pin)直接接觸的(de)(de)(de)(de)(de)(de)超(chao)(chao)純(chun)(chun)水(shui)、超(chao)(chao)純(chun)(chun)氣(qi)體、超(chao)(chao)純(chun)(chun)試劑等(deng)(deng)。對(dui)于現今(jin)以“微(wei)型(xing)電(dian)(dian)腦”為(wei)(wei)手(shou)段的(de)(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)子(zi)(zi)信(xin)息時代(dai)，產(chan)(chan)品(pin)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)高(gao)質量、高(gao)可(ke)靠性的(de)(de)(de)(de)(de)(de)重要意義是不言(yan)而喻的(de)(de)(de)(de)(de)(de);對(dui)于確保人身安 全的(de)(de)(de)(de)(de)(de)滅(mie) 菌操(cao)作以及對(dui)于現代(dai)基因(yin)(yin)工程(cheng)和基因(yin)(yin)芯片的(de)(de)(de)(de)(de)(de)制作也(ye)具有特 殊的(de)(de)(de)(de)(de)(de)意義。基于這種(zhong)趨勢，潔(jie)凈(jing)工程(cheng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)發展已成(cheng)為(wei)(wei)現代(dai)工業生(sheng)產(chan)(chan)和科學實驗(yan)活動不可(ke)缺少的(de)(de)(de)(de)(de)(de)重要標志之一。
　　2、20世紀60年代的(de)(de)(de)(de)(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程在美 國(guo)(guo)(guo)(guo)、歐 洲等發(fa)達國(guo)(guo)(guo)(guo) 家順應各行各業產(chan)品生產(chan)和科學實驗活(huo)動(dong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)需要得到(dao)了(le)(le)(le)廣(guang)泛應用(yong)，可以認為是潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程的(de)(de)(de)(de)(de)(de)大發(fa)展(zhan)時期(qi)。美 國(guo)(guo)(guo)(guo)在1961年誕生了(le)(le)(le)國(guo)(guo)(guo)(guo) 際上(shang)朂(xu)早的(de)(de)(de)(de)(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室標(biao)準(zhun)(zhun)即(ji)美 國(guo)(guo)(guo)(guo)空軍工(gong)程條令203，并把編制(zhi)聯(lian)邦(bang)政府(fu)標(biao)準(zhun)(zhun)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)任務交(jiao)給(gei)了(le)(le)(le)原子(zi)能委員(yuan)會(hui)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)出版機構;1963年底頒布(bu)了(le)(le)(le)第 一個(ge)軍用(yong)部(bu)分(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)聯(lian)邦(bang)標(biao)準(zhun)(zhun)即(ji)FS-209，從此聯(lian)邦(bang)標(biao)準(zhun)(zhun)"209"就成為國(guo)(guo)(guo)(guo) 際通行的(de)(de)(de)(de)(de)(de)、著名的(de)(de)(de)(de)(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室標(biao)準(zhun)(zhun); 1966年頒布(bu)了(le)(le)(le)修訂(ding)后的(de)(de)(de)(de)(de)(de)FS-209A，1957年前(qian)蘇聯(lian)第 一顆人造衛星上(shang)天(tian)后，美 國(guo)(guo)(guo)(guo)政府(fu)加速發(fa)展(zhan)宇航事業、精密(mi)機械(xie)加工(gong)和電(dian)子(zi)工(gong)業，這些都要求具有受控空氣潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)生產(chan)環境，從而帶(dai)動(dong)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程及(ji)其設備制(zhi)造的(de)(de)(de)(de)(de)(de)大發(fa)展(zhan)，1961年單向流潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程和100級潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室的(de)(de)(de)(de)(de)(de)建立(li)，更促 進(jin)(jin)了(le)(le)(le)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程的(de)(de)(de)(de)(de)(de)進(jin)(jin)一步發(fa)展(zhan)。
　　3、我國的(de)潔(jie)(jie)凈(jing)室(shi)(shi)工(gong)程開(kai)始于20世紀60年代初，在70年代電(dian)子工(gong)業潔(jie)(jie)凈(jing)室(shi)(shi)特別是半導體集成電(dian)路用潔(jie)(jie)凈(jing)室(shi)(shi)的(de)設計、建(jian)造(zao)(zao)發(fa)展很快，相繼建(jian)成一(yi)批潔(jie)(jie)凈(jing)廠房，并研(yan)制(zhi)成功100級(ji)單(dan)向(xiang)流潔(jie)(jie)凈(jing)室(shi)(shi);與此同(tong)時，潔(jie)(jie)凈(jing)廠房用設備和(he)材料，如高 效過濾器，潔(jie)(jie)凈(jing)工(gong)作臺、層流罩、潔(jie)(jie)凈(jing)烘箱、空氣吹淵室(shi)(shi)、凈(jing)化型傳遞(di)窗等相繼研(yan)制(zhi)成功，并投入生產，雖(sui)然制(zhi)造(zao)(zao)質量和(he)某(mou)些工(gong)程指標與國 際(ji)水平尚有差距，但已能滿足國內部(bu)分需求(qiu)。由高 效過濾器、凈(jing)化設備和(he)圍(wei)護結(jie)構(gou)(墻板、頂棚。地面)組(zu)裝而成的(de)裝配式潔(jie)(jie)凈(jing)室(shi)(shi)研(yan)制(zhi)成功。到20世紀70年代末我國潔(jie)(jie)凈(jing)室(shi)(shi)設計、建(jian)造(zao)(zao)和(he)潔(jie)(jie)凈(jing)工(gong)程的(de)發(fa)展走向(xiang)成熟階段(duan)。
　　4、20世紀80年(nian)代大規(gui)模集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)(lu)(lu)和超 大規(gui)模集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)(de)迅(xun)速(su)發(fa)展(zhan)(zhan)，大大促 進了(le)潔(jie)(jie)凈(jing)工(gong)程(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)(de)發(fa)展(zhan)(zhan)，集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)(lu)(lu)生產(chan)工(gong)程(cheng)(cheng)從(cong)64K位(wei)到(dao)(dao)4M位(wei)，特征尺(chi)寸從(cong)2.04m到(dao)(dao)0.84m。當時根(gen)據實踐經驗，通常空氣潔(jie)(jie)凈(jing)受控(kong)環境的(de)(de)(de)(de)控(kong)制塵粒(li)粒(li)徑與線(xian)寬的(de)(de)(de)(de)關系(xi)為1:10，因此潔(jie)(jie)凈(jing)工(gong)程(cheng)(cheng)工(gong)作(zuo)者研制了(le)高(gao) 效空氣過(guo)濾(lv)器，可(ke)將粒(li)徑>0.1pm的(de)(de)(de)(de)微(wei)粒(li)去 除到(dao)(dao)規(gui)定(ding)范圍(wei)。根(gen)據大規(gui)模、大規(gui)模集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)(lu)(lu)生產(chan)的(de)(de)(de)(de)需要(yao)，高(gao)純(chun)氣體、高(gao)純(chun)水和高(gao)純(chun)試劑(ji)的(de)(de)(de)(de)生產(chan)工(gong)程(cheng)(cheng)也得到(dao)(dao)很(hen)快的(de)(de)(de)(de)發(fa)展(zhan)(zhan)，從(cong)而使(shi)服務于集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)(lu)(lu)等高(gao)工(gong)程(cheng)(cheng)產(chan)品(pin)所(suo)需的(de)(de)(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)工(gong)程(cheng)(cheng)都得以高(gao)速(su)發(fa)展(zhan)(zhan)。