國內外的(de)(de)潔凈工(gong)程的(de)(de)發(fa)展(zhan)都是(shi)隨著科學工(gong)程的(de)(de)發(fa)展(zhan)、工(gong)業(ye)產品(pin)的(de)(de)日新(xin)月異，特(te)別(bie)是(shi)軍(jun)事工(gong)業(ye)、航天(tian)、電(dian)子(zi)(zi)和生物醫藥等工(gong)業(ye)的(de)(de)發(fa)展(zhan)而不(bu)斷發(fa)展(zhan)。現(xian)代工(gong)業(ye)產品(pin)生產和現(xian)代化科學實(shi)驗活動要(yao)求(qiu)微型化、精密化、高(gao)(gao)純度、高(gao)(gao)質量(liang)和高(gao)(gao)可靠性。微型化的(de)(de)產品(pin)如電(dian)子(zi)(zi)計算機，從當(dang)初的(de)(de)要(yao)在數間房間內配置數臺設備(bei)組合發(fa)展(zhan)到現(xian)在的(de)(de)筆記本電(dian)腦，它所(suo)使用(yong)的(de)(de)電(dian)子(zi)(zi)元(yuan)器件從電(dian)子(zi)(zi)管(guan)到半(ban)導體(ti)分(fen)離器件到集成(cheng)電(dian)路再(zai)到超 大規模集成(cheng)電(dian)路，僅集成(cheng)電(dian)路的(de)(de)線(xian)寬已從幾微米(mi)發(fa)展(zhan)到現(xian)今的(de)(de)0.1um左右。

　　1、以(yi)集成電(dian)(dian)路(lu)的(de)(de)(de)(de)(de)微型化(hua)(hua)為(wei)例，它對空(kong)氣中受控粒(li)子(zi)(zi)粒(li)徑(jing)從0.3~0.5um的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)發展(zhan)到空(kong)氣中受控粒(li)子(zi)(zi)的(de)(de)(de)(de)(de)粒(li)子(zi)(zi)尺寸要(yao)(yao)求(qiu)控制(zhi)在0.05um甚(shen)至更小，可(ke)(ke)見(jian)各類工業(ye)產(chan)(chan)品(pin)的(de)(de)(de)(de)(de)微型化(hua)(hua)正不斷(duan)對潔(jie)凈(jing)工程提出更嚴格的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)。高(gao)(gao)純(chun)(chun)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)，如生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)集成電(dian)(dian)路(lu)所(suo)需單晶(jing)硅(gui)(gui)材(cai)料，生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)光纖所(suo)需四敘化(hua)(hua)硅(gui)(gui)、四氯(lv)化(hua)(hua)錯材(cai)料等(deng)已由過去的(de)(de)(de)(de)(de)所(suo)謂高(gao)(gao)純(chun)(chun)進入“電(dian)(dian)子(zi)(zi)純(chun)(chun)”“超(chao)(chao)純(chun)(chun)”，只(zhi)有(you)達到如此高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)純(chun)(chun)度(du)(du)才能達到現代(dai)(dai)集成電(dian)(dian)路(lu)、電(dian)(dian)子(zi)(zi)元器件、光纖產(chan)(chan)品(pin)所(suo)需的(de)(de)(de)(de)(de)工程特(te)性。要(yao)(yao)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)如此高(gao)(gao)純(chun)(chun)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)，就(jiu)必 須達到相應的(de)(de)(de)(de)(de)受控生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)環境的(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)氣潔(jie)凈(jing)度(du)(du)等(deng)級和(he)具有(you)相應高(gao)(gao)純(chun)(chun)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)與產(chan)(chan)品(pin)直(zhi)接接觸的(de)(de)(de)(de)(de)超(chao)(chao)純(chun)(chun)水、超(chao)(chao)純(chun)(chun)氣體、超(chao)(chao)純(chun)(chun)試劑等(deng)。對于(yu)現今以(yi)“微型電(dian)(dian)腦(nao)”為(wei)手段的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)子(zi)(zi)信息時代(dai)(dai)，產(chan)(chan)品(pin)的(de)(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)質量(liang)、高(gao)(gao)可(ke)(ke)靠性的(de)(de)(de)(de)(de)重要(yao)(yao)意(yi)義是(shi)不言而(er)喻的(de)(de)(de)(de)(de);對于(yu)確保人身(shen)安(an) 全的(de)(de)(de)(de)(de)滅 菌操作(zuo)以(yi)及對于(yu)現代(dai)(dai)基因工程和(he)基因芯片的(de)(de)(de)(de)(de)制(zhi)作(zuo)也具有(you)特(te) 殊的(de)(de)(de)(de)(de)意(yi)義。基于(yu)這種趨勢，潔(jie)凈(jing)工程的(de)(de)(de)(de)(de)發展(zhan)已成為(wei)現代(dai)(dai)工業(ye)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)和(he)科學實驗活動不可(ke)(ke)缺少的(de)(de)(de)(de)(de)重要(yao)(yao)標志(zhi)之一。
　　2、20世紀60年(nian)代的(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)工程(cheng)在美 國、歐 洲等發(fa)(fa)達國 家(jia)順(shun)應(ying)各行各業產品生產和(he)(he)科學(xue)實驗活動的(de)(de)需要(yao)得(de)到(dao)了廣(guang)泛(fan)應(ying)用，可以認為是(shi)潔(jie)(jie)凈(jing)工程(cheng)的(de)(de)大發(fa)(fa)展(zhan)時(shi)期。美 國在1961年(nian)誕生了國 際上朂早的(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)室標(biao)準(zhun)即(ji)美 國空軍(jun)工程(cheng)條令203，并(bing)把編制聯(lian)(lian)邦(bang)(bang)政府標(biao)準(zhun)的(de)(de)任務(wu)交給了原子能委員(yuan)會的(de)(de)出版機構;1963年(nian)底頒(ban)布了第 一個軍(jun)用部分的(de)(de)聯(lian)(lian)邦(bang)(bang)標(biao)準(zhun)即(ji)FS-209，從此聯(lian)(lian)邦(bang)(bang)標(biao)準(zhun)"209"就(jiu)成為國 際通(tong)行的(de)(de)、著(zhu)名的(de)(de)潔(jie)(jie)凈(jing)室標(biao)準(zhun); 1966年(nian)頒(ban)布了修(xiu)訂后的(de)(de)FS-209A，1957年(nian)前蘇聯(lian)(lian)第 一顆人造衛星上天后，美 國政府加速發(fa)(fa)展(zhan)宇航事業、精(jing)密機械加工和(he)(he)電子工業，這些都要(yao)求具(ju)有受控空氣潔(jie)(jie)凈(jing)的(de)(de)生產環境，從而帶動潔(jie)(jie)凈(jing)工程(cheng)及其設備制造的(de)(de)大發(fa)(fa)展(zhan)，1961年(nian)單向(xiang)流潔(jie)(jie)凈(jing)工程(cheng)和(he)(he)100級潔(jie)(jie)凈(jing)室的(de)(de)建立，更(geng)促 進(jin)了潔(jie)(jie)凈(jing)工程(cheng)的(de)(de)進(jin)一步發(fa)(fa)展(zhan)。
　　3、我國(guo)的潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)室(shi)工(gong)程(cheng)開始于(yu)20世(shi)紀(ji)60年(nian)代(dai)(dai)初(chu)，在70年(nian)代(dai)(dai)電(dian)子工(gong)業(ye)潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)室(shi)特別是半導(dao)體集成(cheng)(cheng)(cheng)電(dian)路用潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)室(shi)的設(she)(she)計(ji)、建造(zao)(zao)發(fa)展很(hen)快，相繼建成(cheng)(cheng)(cheng)一批潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)廠房，并(bing)(bing)研制(zhi)成(cheng)(cheng)(cheng)功(gong)100級單(dan)向(xiang)流潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)室(shi);與此(ci)同時，潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)廠房用設(she)(she)備和材料，如高(gao) 效(xiao)過(guo)濾(lv)器(qi)，潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)工(gong)作臺、層(ceng)流罩、潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)烘箱、空氣(qi)吹淵(yuan)室(shi)、凈(jing)(jing)(jing)(jing)化(hua)型(xing)傳遞窗等相繼研制(zhi)成(cheng)(cheng)(cheng)功(gong)，并(bing)(bing)投入生(sheng)產(chan)，雖然制(zhi)造(zao)(zao)質量(liang)和某些(xie)工(gong)程(cheng)指標與國(guo) 際水平尚有差(cha)距，但(dan)已能滿足國(guo)內(nei)部分需求。由高(gao) 效(xiao)過(guo)濾(lv)器(qi)、凈(jing)(jing)(jing)(jing)化(hua)設(she)(she)備和圍(wei)護(hu)結(jie)構(墻板、頂(ding)棚。地面)組(zu)裝而成(cheng)(cheng)(cheng)的裝配式潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)室(shi)研制(zhi)成(cheng)(cheng)(cheng)功(gong)。到20世(shi)紀(ji)70年(nian)代(dai)(dai)末我國(guo)潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)室(shi)設(she)(she)計(ji)、建造(zao)(zao)和潔凈(jing)(jing)(jing)(jing)工(gong)程(cheng)的發(fa)展走向(xiang)成(cheng)(cheng)(cheng)熟階段。
　　4、20世(shi)紀80年代(dai)大(da)規(gui)模(mo)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)(lu)(lu)和超 大(da)規(gui)模(mo)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)(lu)(lu)的(de)(de)(de)迅速(su)發(fa)(fa)展(zhan)，大(da)大(da)促 進(jin)了潔(jie)凈工(gong)(gong)程(cheng)(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)發(fa)(fa)展(zhan)，集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)(lu)(lu)生(sheng)產(chan)工(gong)(gong)程(cheng)(cheng)(cheng)從64K位到4M位，特征(zheng)尺寸從2.04m到0.84m。當時根據(ju)實踐經驗，通常空(kong)氣潔(jie)凈受控環境的(de)(de)(de)控制(zhi)塵粒粒徑與線寬的(de)(de)(de)關系(xi)為1:10，因(yin)此潔(jie)凈工(gong)(gong)程(cheng)(cheng)(cheng)工(gong)(gong)作者研制(zhi)了高(gao)(gao)(gao) 效空(kong)氣過濾器，可(ke)將(jiang)粒徑>0.1pm的(de)(de)(de)微粒去 除到規(gui)定范圍。根據(ju)大(da)規(gui)模(mo)、大(da)規(gui)模(mo)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)(lu)(lu)生(sheng)產(chan)的(de)(de)(de)需(xu)要，高(gao)(gao)(gao)純(chun)氣體、高(gao)(gao)(gao)純(chun)水和高(gao)(gao)(gao)純(chun)試劑的(de)(de)(de)生(sheng)產(chan)工(gong)(gong)程(cheng)(cheng)(cheng)也得(de)到很快的(de)(de)(de)發(fa)(fa)展(zhan)，從而使(shi)服(fu)務于(yu)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)(lu)(lu)等高(gao)(gao)(gao)工(gong)(gong)程(cheng)(cheng)(cheng)產(chan)品所(suo)需(xu)的(de)(de)(de)潔(jie)凈工(gong)(gong)程(cheng)(cheng)(cheng)都得(de)以高(gao)(gao)(gao)速(su)發(fa)(fa)展(zhan)。