國內外的潔凈工(gong)程(cheng)的發(fa)(fa)展(zhan)都是隨著科學工(gong)程(cheng)的發(fa)(fa)展(zhan)、工(gong)業(ye)產品的日(ri)新月(yue)異(yi)，特別是軍事工(gong)業(ye)、航天、電(dian)子(zi)和(he)生物醫(yi)藥等工(gong)業(ye)的發(fa)(fa)展(zhan)而不斷(duan)發(fa)(fa)展(zhan)。現代(dai)工(gong)業(ye)產品生產和(he)現代(dai)化科學實驗活動要求微(wei)(wei)(wei)型(xing)化、精(jing)密化、高(gao)純度、高(gao)質量(liang)和(he)高(gao)可靠性。微(wei)(wei)(wei)型(xing)化的產品如電(dian)子(zi)計算機，從(cong)當初的要在數(shu)間(jian)房間(jian)內配置數(shu)臺設備組合發(fa)(fa)展(zhan)到(dao)(dao)現在的筆記本(ben)電(dian)腦，它(ta)所使(shi)用的電(dian)子(zi)元器件(jian)(jian)從(cong)電(dian)子(zi)管(guan)到(dao)(dao)半導體分離器件(jian)(jian)到(dao)(dao)集成(cheng)電(dian)路再(zai)到(dao)(dao)超 大規模集成(cheng)電(dian)路，僅集成(cheng)電(dian)路的線寬已(yi)從(cong)幾微(wei)(wei)(wei)米發(fa)(fa)展(zhan)到(dao)(dao)現今的0.1um左右。

　　1、以(yi)集成電(dian)(dian)(dian)路的(de)(de)微(wei)(wei)型(xing)(xing)化(hua)為(wei)例，它對(dui)空(kong)氣(qi)中(zhong)(zhong)受控(kong)粒(li)子(zi)粒(li)徑(jing)從0.3~0.5um的(de)(de)要求(qiu)(qiu)發(fa)展(zhan)到空(kong)氣(qi)中(zhong)(zhong)受控(kong)粒(li)子(zi)的(de)(de)粒(li)子(zi)尺寸要求(qiu)(qiu)控(kong)制(zhi)在0.05um甚至更小，可見(jian)各類工(gong)(gong)(gong)業產(chan)(chan)品(pin)(pin)的(de)(de)微(wei)(wei)型(xing)(xing)化(hua)正不(bu)斷對(dui)潔(jie)(jie)凈工(gong)(gong)(gong)程(cheng)提出更嚴格的(de)(de)要求(qiu)(qiu)。高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)(pin)，如(ru)(ru)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)集成電(dian)(dian)(dian)路所(suo)需單晶硅材料(liao)，生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)光纖所(suo)需四敘化(hua)硅、四氯化(hua)錯材料(liao)等(deng)(deng)已由過去的(de)(de)所(suo)謂高(gao)純(chun)(chun)進入“電(dian)(dian)(dian)子(zi)純(chun)(chun)”“超(chao)純(chun)(chun)”，只有(you)達(da)到如(ru)(ru)此高(gao)的(de)(de)純(chun)(chun)度(du)才能達(da)到現代集成電(dian)(dian)(dian)路、電(dian)(dian)(dian)子(zi)元器件、光纖產(chan)(chan)品(pin)(pin)所(suo)需的(de)(de)工(gong)(gong)(gong)程(cheng)特性。要生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)如(ru)(ru)此高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)產(chan)(chan)品(pin)(pin)，就必 須(xu)達(da)到相應的(de)(de)受控(kong)生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)環境的(de)(de)空(kong)氣(qi)潔(jie)(jie)凈度(du)等(deng)(deng)級和(he)具(ju)(ju)有(you)相應高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)與(yu)產(chan)(chan)品(pin)(pin)直接接觸的(de)(de)超(chao)純(chun)(chun)水、超(chao)純(chun)(chun)氣(qi)體、超(chao)純(chun)(chun)試劑等(deng)(deng)。對(dui)于(yu)(yu)現今(jin)以(yi)“微(wei)(wei)型(xing)(xing)電(dian)(dian)(dian)腦”為(wei)手段的(de)(de)電(dian)(dian)(dian)子(zi)信息時代，產(chan)(chan)品(pin)(pin)的(de)(de)高(gao)質量、高(gao)可靠性的(de)(de)重要意(yi)義(yi)是不(bu)言而(er)喻(yu)的(de)(de);對(dui)于(yu)(yu)確保人身安 全的(de)(de)滅 菌(jun)操作以(yi)及對(dui)于(yu)(yu)現代基因工(gong)(gong)(gong)程(cheng)和(he)基因芯(xin)片的(de)(de)制(zhi)作也具(ju)(ju)有(you)特 殊的(de)(de)意(yi)義(yi)。基于(yu)(yu)這種趨勢，潔(jie)(jie)凈工(gong)(gong)(gong)程(cheng)的(de)(de)發(fa)展(zhan)已成為(wei)現代工(gong)(gong)(gong)業生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)和(he)科學實驗活動(dong)不(bu)可缺少的(de)(de)重要標志(zhi)之一(yi)。
　　2、20世(shi)紀60年代的(de)(de)(de)(de)潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程(cheng)在美 國(guo)(guo)(guo)、歐 洲等發(fa)(fa)達國(guo)(guo)(guo) 家順應(ying)各行各業(ye)產品生(sheng)產和(he)科學實(shi)驗活動的(de)(de)(de)(de)需要(yao)(yao)得到了廣泛應(ying)用，可(ke)以認為是潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程(cheng)的(de)(de)(de)(de)大發(fa)(fa)展(zhan)時期(qi)。美 國(guo)(guo)(guo)在1961年誕生(sheng)了國(guo)(guo)(guo) 際上(shang)朂早的(de)(de)(de)(de)潔(jie)凈(jing)(jing)室標準(zhun)(zhun)即美 國(guo)(guo)(guo)空(kong)軍(jun)工(gong)程(cheng)條令203，并把(ba)編(bian)制聯(lian)(lian)邦政府(fu)(fu)標準(zhun)(zhun)的(de)(de)(de)(de)任(ren)務交給了原子(zi)能(neng)委員會的(de)(de)(de)(de)出版機構;1963年底頒布(bu)(bu)了第(di) 一(yi)(yi)個軍(jun)用部(bu)分的(de)(de)(de)(de)聯(lian)(lian)邦標準(zhun)(zhun)即FS-209，從此聯(lian)(lian)邦標準(zhun)(zhun)"209"就成為國(guo)(guo)(guo) 際通行的(de)(de)(de)(de)、著(zhu)名的(de)(de)(de)(de)潔(jie)凈(jing)(jing)室標準(zhun)(zhun); 1966年頒布(bu)(bu)了修(xiu)訂后的(de)(de)(de)(de)FS-209A，1957年前蘇(su)聯(lian)(lian)第(di) 一(yi)(yi)顆人(ren)造衛(wei)星上(shang)天后，美 國(guo)(guo)(guo)政府(fu)(fu)加(jia)速發(fa)(fa)展(zhan)宇航事業(ye)、精密(mi)機械加(jia)工(gong)和(he)電子(zi)工(gong)業(ye)，這些都要(yao)(yao)求(qiu)具有受控空(kong)氣潔(jie)凈(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)生(sheng)產環境，從而帶動潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程(cheng)及其(qi)設(she)備制造的(de)(de)(de)(de)大發(fa)(fa)展(zhan)，1961年單向流潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程(cheng)和(he)100級(ji)潔(jie)凈(jing)(jing)室的(de)(de)(de)(de)建立，更(geng)促 進了潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程(cheng)的(de)(de)(de)(de)進一(yi)(yi)步發(fa)(fa)展(zhan)。
　　3、我國的潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室(shi)(shi)工(gong)(gong)(gong)程開始于(yu)20世紀60年(nian)代(dai)初，在(zai)70年(nian)代(dai)電子(zi)工(gong)(gong)(gong)業(ye)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室(shi)(shi)特別(bie)是半導體集(ji)成(cheng)(cheng)電路用潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室(shi)(shi)的設(she)計、建(jian)造發展很快，相繼建(jian)成(cheng)(cheng)一批潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)廠(chang)房，并(bing)研制(zhi)成(cheng)(cheng)功(gong)(gong)100級(ji)單向流潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室(shi)(shi);與此(ci)同時，潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)廠(chang)房用設(she)備和(he)材(cai)料，如高 效(xiao)過(guo)濾器，潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)(gong)(gong)作臺、層流罩、潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)烘箱、空氣(qi)吹淵室(shi)(shi)、凈(jing)(jing)化型(xing)傳(chuan)遞(di)窗等相繼研制(zhi)成(cheng)(cheng)功(gong)(gong)，并(bing)投入生產，雖(sui)然制(zhi)造質(zhi)量和(he)某(mou)些工(gong)(gong)(gong)程指標與國 際水(shui)平尚(shang)有差距，但已能滿足國內(nei)部分需求。由高 效(xiao)過(guo)濾器、凈(jing)(jing)化設(she)備和(he)圍護結構(墻板、頂棚。地面)組裝而成(cheng)(cheng)的裝配式潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室(shi)(shi)研制(zhi)成(cheng)(cheng)功(gong)(gong)。到(dao)20世紀70年(nian)代(dai)末我國潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)室(shi)(shi)設(she)計、建(jian)造和(he)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)工(gong)(gong)(gong)程的發展走向成(cheng)(cheng)熟階段。
　　4、20世紀80年代大(da)(da)(da)規(gui)(gui)模集成電(dian)(dian)路(lu)和超 大(da)(da)(da)規(gui)(gui)模集成電(dian)(dian)路(lu)的(de)迅(xun)速發(fa)(fa)展，大(da)(da)(da)大(da)(da)(da)促 進(jin)了(le)潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程的(de)發(fa)(fa)展，集成電(dian)(dian)路(lu)生產工(gong)程從(cong)64K位到4M位，特征尺(chi)寸從(cong)2.04m到0.84m。當(dang)時根據(ju)實(shi)踐(jian)經驗，通(tong)常空氣潔(jie)凈(jing)(jing)受控環境的(de)控制塵粒粒徑與(yu)線(xian)寬的(de)關系為(wei)1:10，因此(ci)潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程工(gong)作者研(yan)制了(le)高(gao)(gao)(gao) 效空氣過濾器，可(ke)將粒徑>0.1pm的(de)微粒去 除到規(gui)(gui)定范圍。根據(ju)大(da)(da)(da)規(gui)(gui)模、大(da)(da)(da)規(gui)(gui)模集成電(dian)(dian)路(lu)生產的(de)需要，高(gao)(gao)(gao)純(chun)氣體、高(gao)(gao)(gao)純(chun)水和高(gao)(gao)(gao)純(chun)試劑的(de)生產工(gong)程也得(de)到很快的(de)發(fa)(fa)展，從(cong)而使(shi)服(fu)務于(yu)集成電(dian)(dian)路(lu)等高(gao)(gao)(gao)工(gong)程產品所需的(de)潔(jie)凈(jing)(jing)工(gong)程都得(de)以(yi)高(gao)(gao)(gao)速發(fa)(fa)展。