國內外的(de)潔凈工程的(de)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)(zhan)都是(shi)隨(sui)著科(ke)學(xue)工程的(de)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)(zhan)、工業(ye)產品的(de)日新月異(yi)，特別是(shi)軍事工業(ye)、航(hang)天、電(dian)(dian)(dian)子(zi)和(he)生(sheng)(sheng)物醫藥等(deng)工業(ye)的(de)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)(zhan)而不斷發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)(zhan)。現(xian)代工業(ye)產品生(sheng)(sheng)產和(he)現(xian)代化(hua)科(ke)學(xue)實驗活動要求(qiu)微(wei)型化(hua)、精(jing)密化(hua)、高純度、高質(zhi)量(liang)和(he)高可靠性。微(wei)型化(hua)的(de)產品如電(dian)(dian)(dian)子(zi)計算(suan)機，從(cong)當初的(de)要在數(shu)間房(fang)間內配置數(shu)臺設備組合發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)(zhan)到現(xian)在的(de)筆記本電(dian)(dian)(dian)腦，它(ta)所(suo)使用的(de)電(dian)(dian)(dian)子(zi)元器件(jian)從(cong)電(dian)(dian)(dian)子(zi)管到半導(dao)體分離器件(jian)到集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)再(zai)到超(chao) 大規模集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)，僅集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)的(de)線寬已從(cong)幾(ji)微(wei)米(mi)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)(zhan)到現(xian)今(jin)的(de)0.1um左右。

　　1、以集(ji)成電(dian)(dian)路的(de)(de)(de)(de)(de)微型(xing)化為例，它對空(kong)氣中受(shou)控(kong)粒子粒徑從0.3~0.5um的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)發展(zhan)到(dao)空(kong)氣中受(shou)控(kong)粒子的(de)(de)(de)(de)(de)粒子尺寸要(yao)求(qiu)(qiu)控(kong)制在0.05um甚至更小，可見(jian)各類工業產(chan)(chan)(chan)品的(de)(de)(de)(de)(de)微型(xing)化正(zheng)不斷對潔(jie)凈(jing)工程(cheng)(cheng)提(ti)出(chu)更嚴格的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)。高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)產(chan)(chan)(chan)品，如生(sheng)產(chan)(chan)(chan)集(ji)成電(dian)(dian)路所需(xu)單晶硅材料，生(sheng)產(chan)(chan)(chan)光纖所需(xu)四敘(xu)化硅、四氯化錯材料等(deng)已由過(guo)去(qu)的(de)(de)(de)(de)(de)所謂高(gao)純(chun)(chun)進入“電(dian)(dian)子純(chun)(chun)”“超(chao)純(chun)(chun)”，只(zhi)有(you)(you)達(da)到(dao)如此(ci)高(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)純(chun)(chun)度(du)才能達(da)到(dao)現(xian)(xian)代集(ji)成電(dian)(dian)路、電(dian)(dian)子元器(qi)件、光纖產(chan)(chan)(chan)品所需(xu)的(de)(de)(de)(de)(de)工程(cheng)(cheng)特(te)(te)性。要(yao)生(sheng)產(chan)(chan)(chan)如此(ci)高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)產(chan)(chan)(chan)品，就必 須達(da)到(dao)相應(ying)(ying)的(de)(de)(de)(de)(de)受(shou)控(kong)生(sheng)產(chan)(chan)(chan)環境的(de)(de)(de)(de)(de)空(kong)氣潔(jie)凈(jing)度(du)等(deng)級和(he)(he)具(ju)有(you)(you)相應(ying)(ying)高(gao)純(chun)(chun)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)與產(chan)(chan)(chan)品直(zhi)接接觸的(de)(de)(de)(de)(de)超(chao)純(chun)(chun)水、超(chao)純(chun)(chun)氣體(ti)、超(chao)純(chun)(chun)試劑(ji)等(deng)。對于現(xian)(xian)今以“微型(xing)電(dian)(dian)腦”為手段的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)子信(xin)息時代，產(chan)(chan)(chan)品的(de)(de)(de)(de)(de)高(gao)質量、高(gao)可靠性的(de)(de)(de)(de)(de)重(zhong)要(yao)意(yi)(yi)義是不言而喻的(de)(de)(de)(de)(de);對于確保人身安 全(quan)的(de)(de)(de)(de)(de)滅 菌操(cao)作以及(ji)對于現(xian)(xian)代基(ji)因工程(cheng)(cheng)和(he)(he)基(ji)因芯片的(de)(de)(de)(de)(de)制作也(ye)具(ju)有(you)(you)特(te)(te) 殊(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)意(yi)(yi)義。基(ji)于這種趨勢，潔(jie)凈(jing)工程(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)(de)(de)發展(zhan)已成為現(xian)(xian)代工業生(sheng)產(chan)(chan)(chan)和(he)(he)科學實驗活(huo)動不可缺少的(de)(de)(de)(de)(de)重(zhong)要(yao)標(biao)志之一。
　　2、20世紀60年代的(de)潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)工(gong)(gong)程在(zai)美(mei)(mei)(mei) 國(guo)(guo)(guo)、歐 洲等(deng)發達國(guo)(guo)(guo) 家(jia)順應(ying)各行(xing)各業(ye)產品生(sheng)產和科學(xue)實(shi)驗活(huo)動的(de)需要(yao)得到了(le)廣泛應(ying)用(yong)，可以認為(wei)是潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)工(gong)(gong)程的(de)大發展(zhan)(zhan)時期(qi)。美(mei)(mei)(mei) 國(guo)(guo)(guo)在(zai)1961年誕生(sheng)了(le)國(guo)(guo)(guo) 際上(shang)朂早的(de)潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)室標(biao)準即美(mei)(mei)(mei) 國(guo)(guo)(guo)空軍工(gong)(gong)程條令203，并把編制聯(lian)邦(bang)政(zheng)(zheng)府標(biao)準的(de)任務交給了(le)原子能委員會的(de)出版機(ji)構(gou);1963年底頒布了(le)第 一個軍用(yong)部分的(de)聯(lian)邦(bang)標(biao)準即FS-209，從(cong)此(ci)聯(lian)邦(bang)標(biao)準"209"就成為(wei)國(guo)(guo)(guo) 際通行(xing)的(de)、著(zhu)名的(de)潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)室標(biao)準; 1966年頒布了(le)修訂后(hou)的(de)FS-209A，1957年前蘇(su)聯(lian)第 一顆人造衛星上(shang)天后(hou)，美(mei)(mei)(mei) 國(guo)(guo)(guo)政(zheng)(zheng)府加速發展(zhan)(zhan)宇航事業(ye)、精密機(ji)械加工(gong)(gong)和電(dian)子工(gong)(gong)業(ye)，這些都(dou)要(yao)求具有受(shou)控空氣潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)的(de)生(sheng)產環境，從(cong)而帶(dai)動潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)工(gong)(gong)程及其設備制造的(de)大發展(zhan)(zhan)，1961年單向流(liu)潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)工(gong)(gong)程和100級潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)室的(de)建立，更促 進了(le)潔(jie)凈(jing)(jing)(jing)工(gong)(gong)程的(de)進一步發展(zhan)(zhan)。
　　3、我國(guo)的潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)室(shi)工程(cheng)開始(shi)于(yu)20世紀60年代初(chu)，在(zai)70年代電子工業潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)室(shi)特別是(shi)半導體集成電路用潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)室(shi)的設(she)(she)(she)計(ji)、建(jian)造(zao)發(fa)(fa)展很快，相繼建(jian)成一(yi)批潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)廠房，并研(yan)制成功100級單向流潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)室(shi);與(yu)此同時，潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)廠房用設(she)(she)(she)備(bei)和材(cai)料(liao)，如高 效(xiao)(xiao)過濾器(qi)，潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)工作臺、層流罩(zhao)、潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)烘箱(xiang)、空(kong)氣吹淵室(shi)、凈(jing)(jing)(jing)化型傳遞窗等相繼研(yan)制成功，并投(tou)入生(sheng)產，雖(sui)然制造(zao)質量和某(mou)些(xie)工程(cheng)指標與(yu)國(guo) 際水平尚有差距，但已能滿足(zu)國(guo)內部分需(xu)求。由高 效(xiao)(xiao)過濾器(qi)、凈(jing)(jing)(jing)化設(she)(she)(she)備(bei)和圍護(hu)結構(墻板、頂棚。地(di)面(mian))組裝而成的裝配式潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)室(shi)研(yan)制成功。到(dao)20世紀70年代末我國(guo)潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)室(shi)設(she)(she)(she)計(ji)、建(jian)造(zao)和潔(jie)(jie)凈(jing)(jing)(jing)工程(cheng)的發(fa)(fa)展走向成熟階段(duan)。
　　4、20世紀(ji)80年代(dai)大(da)(da)規(gui)模集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)和超 大(da)(da)規(gui)模集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)的迅速發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)，大(da)(da)大(da)(da)促 進(jin)了(le)(le)潔凈工程的發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)，集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)生產工程從(cong)64K位到(dao)(dao)4M位，特征尺寸從(cong)2.04m到(dao)(dao)0.84m。當(dang)時根(gen)據(ju)實(shi)踐經(jing)驗，通常空氣潔凈受控(kong)環境的控(kong)制塵(chen)粒(li)粒(li)徑與線(xian)寬(kuan)的關系為1:10，因此(ci)潔凈工程工作(zuo)者研制了(le)(le)高(gao) 效空氣過濾器，可將粒(li)徑>0.1pm的微粒(li)去(qu) 除到(dao)(dao)規(gui)定范(fan)圍。根(gen)據(ju)大(da)(da)規(gui)模、大(da)(da)規(gui)模集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)生產的需(xu)要，高(gao)純氣體、高(gao)純水和高(gao)純試劑(ji)的生產工程也得到(dao)(dao)很快的發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)，從(cong)而使服務(wu)于集(ji)成電(dian)(dian)(dian)路(lu)(lu)等高(gao)工程產品(pin)所需(xu)的潔凈工程都得以(yi)高(gao)速發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)。